科研之友
微信
新浪微博
Facebook
分享链接
摘要
以Trp为荧光探针,测定Aspergillus ficuum产内切菊粉酶和外切菊粉酶的内源荧光性质,结果表明,外切菊粉酶和内切菊粉酶荧光产生贡献的色氨酸残基可能位于一个极性环境中,内切菊粉酶的色氨酸残基所处环境的极性比外切菊粉酶的色氨酸残基所处的环境极性大。菊粉酶经N-溴代琥珀酰亚胺(NBS)修饰后,内切菊粉酶荧光发射峰位出现了明显的蓝移,表明内切菊粉酶分子的色氨酸比外切菊粉酶分子的色氨酸对环境的变化更敏感。以丙烯酰胺作为荧光淬灭剂,内切菊粉酶色氨酸的可及分数比外切菊粉酶色氨酸的可及分数大,说明内切菊粉酶分子中的色氨酸比外切菊粉酶的更加暴露。菊粉酶在不同的pH值环境中荧光强度的变化结果显示:随着环境pH值的降低,内切菊粉酶的荧光淬灭程度比外切菊粉酶大,表明内切酶分子中色氨酸的微环境对pH值的变化更敏感。荧光光谱分析揭示了内切菊粉酶和外切菊粉酶具有不同的构象。
